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ISSCC登场 专家预测后CMOS时代接班技术

来源:《UPS与机房》2010.2 作者:机房360 更新时间:2010-3-23 22:09:39

摘要:晶片微缩应可在接下来的15年内持续进展,他并预测了「后CMOS时代」的接班技术。ISSCC登场,专家预测后CMOS时代接班技术。

  一年一度的国际固态电路会议(InternationalSolidStateCircuitConference,ISSCC)日前(2月8日)在美国旧金山登场,一位在会议上发表演说的学界专家表示,晶片微缩应可在接下来的15年内持续进展,他并预测了「后CMOS时代」的接班技术。
  
  乔治亚理工学院(GeorgiaInstituteofTechnology)旗下JosephM.Pettit微电子研究中心教授JamesMeindl在ISSCC的专题演说中表示:「在接下来的15年,我们会持续用力微缩晶片;而在硅晶片技术之外,奈米电子领域的革命性发展也许会以石墨烯(graphene)为中心演进。」
  
  他预测,处理器硅製程可能会微缩至7.9奈米节点,时程在2024年;而在那之前或之后,石墨烯可望实现未来的兆级运算(terascalecomputing)。
  
  为何是石墨烯从自旋电子(spintronics)、分子电子(molecularelectronics)等技术中脱颖而出,成为后CMOS时代结束后最有希望的接班技术?以下是Meindl所提供的六个理由?
  
  1.石墨烯的机械性强度-重量比(strength-to-weightratio),超越其他所有已知的材料;
  
  2.其载体迁移率(carriermobility)超过200,000cm2/Vs;
  
  3.被称为「迪拉克费米子(Diracfermions)」的零有效质量载体与光子(photon)类似的,其速率比光速小三百倍,在微米等级的距离范围内无散射(scattering);
  
  4.其电流传导密度是铜的一千倍,无电子迁移(electromigration);
  
  5.在室温下的热传导性曾达到超过5,000W/mK的记录;
  
  6.能做为场效应电晶体(FET)的源/通道汲极,也能做为互连(interconnect)。
  
  不久前,美国宾州大学的研究人员才宣佈製造出4吋(100mm)石墨烯晶圆片,预告了碳IC时代不远的讯息  

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