| 摘要：加州普莱桑顿, 2013年3月7日 -高级纳米结构涂层和设备研发的领导者Rolith, Inc.，今天宣布成功安装 由Rolith, Inc. 独家授权SUSS MicroTec AG建造的第 2 代纳米结构原型工具 – RML-2 工具。此原型基于 Rolith, Inc. 开发的具有颠覆性的纳米光刻技术(滚动掩模光刻 – RMLTM)。该工具允许用户在高达1m x 0.3 m的大面积基底材料上以高吞吐量和具有成本效益的方式创建纳米结构 。 |
高吞吐量和低成本纳米图案化技术的实现能够帮助可再生能源、电子产品和绿色建筑市场提高产品性能并带来更多创新产品。高效率太阳能电池板、高亮度 LED、防炫目手机和电视屏幕以及低辐射玻璃窗只是 RML 技术可实现的部分高级产品一部分示例。Rolith 具有国际专利的技术基于利用了柱形滚动掩模的近场光刻技术专利实施。这一掩模由 Rolith 制造，并可为满足特定的客户应用需求而量身定制。子波长分辨率通过相位移干涉效果或电浆子增强打印结构实现。连续的滚动掩模光刻技术可以低成本提供高吞吐量。
RML-2 工具提升了 2011 年构建的第 1 代工具 RML-1 的最初功能。RML-2 可使用传送带样式的基底处理器处理 1m 长的玻璃板、多个更小的玻璃板或半导体晶片。此外，RML 工艺对基底不平整度有很高的接纳性，这一点对建筑玻璃窗或蓝宝石 LED 晶片的处理非常有利。
迄今，RML-2 工具已在加利福尼亚普莱森顿Rolith 设施和日本东京Asahi Glass 公司研发设施上成功安装并取得资质。Rolith 正继续寻找更多的联合开发伙伴,实现其各种纳米结构技术应用的商业化。
Rolith 创办者兼 CEO Boris Kobrin 博士说:“对于我们全新光刻技术理念开发的进展,我们感到非常高兴。现在，随着第 2 代 Rolith 光刻工具的投入使用，我们可以有效应对来自多种行业对这一技术快速增长的兴趣。”。
SÜSS MicroTec AG 总裁兼 CEO Frank Averdung 先生说：“Rolith创新的光学纳米光刻技术和我们的解决方案一起实现了对极小结构的印刷。连续的滚动掩模技术为我们的客户在大基地的处理提供了全新的功能，”
AGC America, Inc. 总经理 Hiroshi Usui 先生说：“这种工艺允许我们在大面积上创建纳米结构并在各种市场中应用。”
责任编辑：yayo
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