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CUMEC公司晶圆级键合工艺技术取得阶段性突破

来源:光纤在线 作者: 更新时间:2020/8/7 9:00:35

摘要:晶圆级键合工艺技术是三维集成技术实现的关键基础工艺技术,CUMEC公司通过自主开发和艰苦攻关,于近期取得了阶段性突破。

  晶圆级键合工艺技术是三维集成技术实现的关键基础工艺技术,CUMEC公司通过自主开发和艰苦攻关,于近期取得了阶段性突破。

  ▲CUMEC工程师们正在进行键合工艺讨论

  晶圆级键合工艺技术是一项技术壁垒较高的新型技术,目前仅台积电、三星、索尼、IMEC等少数公司和机构的12吋工艺平台完整掌握该工艺技术,且工艺要求极其严苛。对CUMEC公司新建的8吋工艺平台来说,攻克该技术具有诸多挑战。CUMEC公司精心策划,科学组织,组建了以青年博士为核心的技术攻关团队,在缺乏技术参考及外部支持的情况下,从零开始、迎难而上,多方搜集资料,集思广益、通力协作、反复尝试,终于在技术上取得阶段性突破,成功实现8吋Si/Si、Si/Glass的临时键合及Si/Si、Si/SiO2(Thermal)的永久键合。其中,基于临时键合技术成功制作出数十微米厚度的晶圆,标志着CUMEC公司该项晶圆级键合技术已经达到业界先进水平。

  CUMEC公司始终坚持走自主研发的创新发展道路, CUMEC人将继续发扬直面挑战、勇攀高峰的精神,努力在特色工艺技术领域取得新的更大突破!

  责任编辑:张华

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